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高精密平面研磨和抛光原理及工艺简介

目录:常见问题点击率:发布时间:2017-09-28 15:38:07

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平整度:
工件的平整度取决于磨盘的平整度。随着加工领域的不断深化及精度和效率要求越来越高:“KIZI”从铸铁盘、合成盘、铜盘、纯锡盘、树脂盘发展到金刚石盘,并通过各种方法把盘的平面订修到最佳达2um。
粗糙度:
表面粗糙度取决于磨料颗粒的大小、形状和磨盘的材料, 以及工件材质及硬度。
粗磨:
利用较粗颗粒度的磨料在磨盘与工件面上磨削,进刀量大、效率高;但磨削面较粗,适用于磨削余量较多之工作。
中磨:
利用中度颗粒的磨料在磨盘与工件面上磨削,进刀量快、效率高,表面粗糙度适中,适合磨削量一般之工件。
精磨:
利用较细颗粒度的磨料在磨盘中与工件面上磨削,进刀量较小、表面光洁度好,磨削痕均匀而细。
软抛光:
利用磨盘上加装一个特殊材料抛光垫或抛光布,抛光料在抛光垫或抛光布之间运动,使工件比硬抛光更有超镜子一样的高光洁度。
硬抛光:
利用合成盘、铜盘、锡盘、树脂盘等非常高精密度的基面加入微米级金刚石磨料,使工件表面变得既高精密平面度,又有像镜子一样的高光洁度。如图E

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